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高溫恒溫油槽G20050

發布時間:2020-12-02 13:12:17    點擊次數:

高溫恒溫油槽G20050
高溫恒溫循環槽G20050,容積50L,控溫範圍RT+30℃~200℃,恒溫波動度達到±0.05℃,用於200℃的樣品保存、分析測試、計量檢定以及化學反應工藝過程控製,也可以作為普通溫度計及其它溫度測量儀表製造中的定標用途

 

高溫恒溫油槽G20050
高溫恒溫油槽G20050采用PID微機智能控製係統,配合高溫油泵循環,使槽內溫度更均勻、控溫更精確;用於樣品保存、分析測試、計量檢定以及化學反應工藝過程控製,也可以作為普通溫度計及其它溫度測量儀表製造中的定標用途,整個量程範圍的溫度精確控製,恒溫波動度達到±0.1℃可以按用戶要求提供流量、壓力及接口連接方式、連接尺寸等定製。
 
產品特點
>采用PID溫度控製技術,恒溫波動度±0.1℃;
>加熱管和製冷盤管均采用不鏽鋼材質,易清洗;
> 細膩的隔熱和保溫設計,確保設備在+300℃運行時,儀器表麵溫度不會太高,保證操作安全;
>低噪音設計,免除實驗室噪音難題;
>設備操作簡單,自動和手動2種模式,操作更方便;
>工作溫度範圍內的過溫安全保護功能,保護實驗安全;
>具有斷電記憶功能;
> 具有機械限溫和超溫保護,雙重保護,使用更放心;
>適合內部和外循環應用,應用範圍廣;
> 9點溫度校準和單點溫度校準,溫度數據更可靠;
>知名品牌壓縮機,製冷效率高;
>相關配件采用大品牌,性能穩定且壽命長;
>全封閉特種磁力泵/渦旋泵循環攪拌,溫場均勻;
>具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等,安全防護更全麵;
 G20020副本.jpg
應用範圍
> 材料老化測試
> 化學設備熱源的溫度控製
> 半導體設備的溫度控製
> 高壓反應釜動態溫度控製
> 雙層玻璃反應釜動態溫度控製
> 雙層反應釜動態溫度控製
> 微通道反應器溫度控製
> 蒸餾係統控溫
> 化工、製藥、電子等領域工藝控製
> 高溫消毒,高溫蒸餾,高溫測量與檢定等
 
安全保護裝置
>具有斷電記憶功能;
>溫度上下限製保護和報警功能;
 
技術參數
高溫恒溫油槽G20050

型號
G20050
控溫範圍
RT+30℃~200℃
溫度波動度
0.1~0.2℃
顯示精度
0. 01
容積
50L
液槽尺寸
320x460x340mm
開口尺寸
300x440mm
溫度控製
PID程序
最大流量
25L/min
最大壓力
4bar
加熱功率
4KW
電源
380V 50Hz 16A
外形尺寸
470x730x840mm
安全性能
數顯溫度校準,傳感器開路、短路保護和報警,,高低溫保護

 
備注:高溫恒溫油槽G20050技術參數均為標準配置參數,若對設備壓力、流量、外循環等特別要求或高精度恒溫控製,我公司可以根據實際的需求做非標定製化處理。
 

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